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Brandneu MKS MW-5502-01 RF-Matcher

Brandneu MKS MW-5502-01 RF-Matcher

Brandneu MKS MW-5502-01 RF-Matcher

Hohe Präzision, stabile Leistung

Geeignet für industrielle Automatisierung

Auf Lager & schnelle weltweite Lieferung

  • Artikel-Nr.:

    MW-5502-01

  • Bestellung (MOQ):

    1

  • Zahlung:

    100% T/T

  • Produktherkunft:

    USA

  • Farbe:

    As Model

  • Verschiffungshafen:

    Xiamen

  • Vorlaufzeit：

    2-3 days
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  • Produktdetails

Beschreibung:

MKS RF Matchers (auch als RF-Matching-Boxen/-Netzwerke bezeichnet) sind hochleistungsfähige automatische Impedanzanpassungsgeräte, die für Halbleiter- und industrielle Plasmasysteme entwickelt wurden. Sie gleichen dynamisch die 50Ω-Ausgangsimpedanz von RF-Generatoren mit der variablen Impedanz von Plasmakammern, Ätzanlagen, PECVD- und Sputteranlagen ab und minimieren so die reflektierte Leistung bei gleichzeitiger Maximierung der Leistungsübertragungseffizienz. Mit schneller Abstimmung, robuster Abschirmung und kompakten Rack-Mount-Designs gewährleisten sie eine stabile Plasmazündung, konsistente Prozessleistung und 24/7-Produktionszuverlässigkeit. Erhältlich in neuen, generalüberholten und vollständig getesteten gebrauchten Zuständen.
 
 
 
Wichtige Spezifikationen:
  1. Automatische Impedanzanpassung: Echtzeit-Abstimmung zur Anpassung der 50Ω-Generatorausgangsimpedanz an die variable Plasma-Lastimpedanz; minimiert die reflektierte Leistung (typischerweise
  2. Schnelle Abstimmungsgeschwindigkeit: Hochgeschwindigkeitsreaktion (
  3. Breite Frequenz- & Leistungsabdeckung: Unterstützt 13.56MHz (Standard), 27.12MHz, 40.68MHz; Leistungsbereiche von 300W bis 10kW
  4. Robuste Konstruktion: Robustes Metallgehäuse mit EMI/RFI-Abschirmung; Standard-Luftkühlung (Wasserkühlungsoption für Hochleistungsmodelle)
  5. Präzisionskomponenten: Hochwertige variable Kondensatoren, Induktivitäten und Schrittmotoren für lange Lebensdauer (1.000.000+ Zyklen)
 
 
 

Anwendungen:

  1. Halbleiterfertigung: RIE/ICP-Ätzen, PECVD/LPCVD-Abscheidung, Plasma-Veraschung, Wafer-Reinigung, Load-Lock-Systeme
  2. Vakuumbeschichtung: Sputtern, Verdampfung, PVD/CVD-Dünnschichtabscheidung für Optik, Displays und Solarzellen
  3. Industrielle Plasmabehandlung: Oberflächenaktivierung, Reinigung, Ätzen und Beschichtung von Metallen, Kunststoffen und Keramiken
  4. Forschung & Entwicklung: Universitätslabore, Forschungseinrichtungen und Pilot-Produktionslinien, die eine stabile HF-Plasmaversorgung erfordern

 

 

FAQ:

F1: Wie ist der Produktzustand und die Garantie?
A: Neuware, Originalprodukte. 1 Jahr Garantie inklusive.

F2: Wie lauten Ihre Zahlungsbedingungen?
A: T/T, PayPal unterstützt.

F3: Wie ist die Lieferzeit für das Produkt? Gibt es ausreichend Lagerbestand?
A: Standardmodelle auf Lager, Versand innerhalb von 3–5 Werktagen nach Zahlung. Seltene Modelle erfordern eine Bestellung beim Hersteller – kontaktieren Sie den Kundenservice für Zeitpläne.

F4: Versand & Sendungsverfolgung
A: DHL/FedEx/UPS verfügbar. Sendungsverfolgungsnummer + Link werden nach Versand bereitgestellt. Vollständige Prozessüberwachung durch unser Team.

F5: Verpackung & Sicherheit

 

A: Originalmarkenverpackung mit verstärktem Schutz (Schaumstoff, versiegelte Kartons, Holzkisten für Präzisionsgeräte). Feuchtigkeits- und stoßfest.

 

 

Verwandte Tags : Industrial equipment Automation components RF Matchers
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